Omadused:

1) Nitreerimiskiirus on suurem, nitrideerimistsüklit saab sobivalt lühendada ja ioonnitrideerimisaega saab lühendada 1/3–2/3-ni gaasinitrideerimisajast.

2) Nitriidkihi rabedus on väike ja plasmanitrideerimisel pinnale moodustunud valge kiht on väga õhuke või puudub üldse. Lisaks on nitrideerimiskihi põhjustatud deformatsioon väike, mis sobib eriti hästi keeruka kujuga täppisdetailide jaoks.

3) Energia ja ammoniaagi tarbimist saab kokku hoida. Elektrienergia tarbimine on 1/2–1/5 gaasinitriidimise energiast ja ammoniaagi tarbimine on 1/5–1/20 gaasinitriidimise energiast.

4) Kohalikku nitrideerimist on lihtne teostada, kui osa, mis ei soovi nitrideerimist, ei tekita hõõgumist, on mittenitrideerivat osa lihtne kaitsta ning hõõgumist saab kaitsta mehaanilise varjestuse ja rauast plaadiga.

5) Ioonpommitamine puhastab pinda ja eemaldab passiivkihi automaatselt. Roostevaba terast ja kuumakindlat terast saab otse nitriidida ilma passiivkihti eelnevalt eemaldamata.

6) Ühendkihi struktuuri, infiltratsioonikihi paksust ja struktuuri saab kontrollida.

7) Töötlemistemperatuuride vahemik on lai ja teatud paksusega nitrideerimiskihti on võimalik saada isegi alla 350 °C.

8) Töötingimusi on parandatud. Saastevaba plasma nitriidtöötlus toimub väga madala rõhu all ja väga vähese heitgaasiga. Gaasiallikaks on lämmastik, vesinik ja ammoniaak ning kahjulikke aineid põhimõtteliselt ei teki.

9) Seda saab kasutada igat tüüpi materjalide puhul, sealhulgas roostevaba teras, kõrge nitrideerimistemperatuuriga kuumakindel teras, tööriistateras ja madala nitrideerimistemperatuuriga täppisdetailid, samas kui madalal temperatuuril nitrideerimine on gaasnitrideerimisel üsna keeruline.